[15a-F202-1~13] 3.12 ナノ領域光科学･近接場光学

[15a-F202-7] Metal Film Over Nanosphere構造におけるシリコン量子ドット単層膜の吸収断面積および発光再結合レートの同時増強

〇井上 飛鳥¹、杉本 泰¹、藤井 稔¹ (1.神戸大院工)

キーワード：シリコン、発光増強、シリコン量子ドット

シリコン量子ドットは生体親和性、高い光安定性、化学安定性を示すことから、バイオ分野での応用が期待されている。しかし、間接遷移型半導体であるシリコンの影響を継承しており、小さい吸収断面積、低い発光再結合レートという課題を有している。本研究では、金属ナノ構造であるMetal Film Over Nanosphere構造を用いて、シリコン量子ドット単層膜の吸収断面積および発光再結合レートの同時増強を行った。