[15a-F206-1~8] 22.1 合同セッションM 「フォノンエンジニアリング」

[15a-F206-3] 金属/半導体複合構造におけるLOフォノン-プラズモン結合モード
共鳴赤外光吸収とポラリトン損失

竹内 映人¹、〇坂本 裕則¹、馬 ベイ¹、森田 健¹、石谷 善博¹ (1.千葉大工)

キーワード：ヒ化ガリウム、フォノンポラリトン、ストライプ