2017年第64回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料

[15p-311-1~18] 6.4 薄膜新材料

2017年3月15日(水) 13:15 〜 18:15 311 (311)

篠田 健太郎(産総研)、中村 吉伸(東大)、名村 今日子(京大)

15:30 〜 15:45

[15p-311-9] 塗布光照射法における酸化スズ膜結晶化過程のナノ秒温度計測

勝木 司1、土屋 哲男2、明渡 純2、湯本 敦史1、篠田 健太郎2 (1.芝浦工大院理工、2.産総研)

キーワード:酸化物、化学溶液法、エキシマレーザー

塗布光照射法は、エキシマレーザーを照射し、結晶化させることにより、低温で酸化物薄膜を得ることができるプロセスである。光熱反応が重要であることがわかってきているものの、その定量的な理解には至っていない。そこで我々は、ナノ秒応答の高速放射温度計を開発し、熱的影響の解明に取り組んできた。今回、レーザーの照射数によって製膜中の温度変化が大きく異なるという興味深い結果が得られたので報告する。