[15p-318-1~11] CS.4 7. コードシェアセッション：ビーム応用大分類

[15p-318-11] EUV光源ターゲットのレーザーアブレーションによる粒子発生

〇佐々木 明¹、砂原 淳²、西原 功修³、西川 亘⁴ (1.量研機構、2.レーザー総研、3.阪大レーザー研、4.岡山大)

キーワード：EUVリソグラフィ、レーザー生成プラズマ、シミュレーション

レーザー生成プラズマを用いたEUV光源において、短パルスプリパルスレーザー照射によってターゲットが微粒子に分散する過程に注目し、粒子の分布、それによって決まるメインパルスレーザーの吸収率などを評価するシミュレーションモデルの研究を行っている。２次元流体シミュレーションにメッシュの動的再配置を導入し、レーザー照射で加熱されたターゲット物質中における気泡や粒子生成のダイナミクスの解析を行っている。