The 64th JSAP Spring Meeting, 2017

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Oral presentation

15 Crystal Engineering » 15.4 III-V-group nitride crystals

[15p-503-1~16] 15.4 III-V-group nitride crystals

Wed. Mar 15, 2017 1:45 PM - 6:15 PM 503 (503)

Motoaki Iwaya(Meijo Univ.), Mitsuru Funato(Kyoto Univ.), Yoshihiro Kangawa(Kyushu Univ.)

4:00 PM - 4:15 PM

[15p-503-9] The blocking of dislocation propagation by bunched steps during Na-flux growth

Ryusei Kuramoto1, Masayuki Imanishi1, Masatomo Honjo1, Kosuke Murakami1, Hiroki Imabayashi1, Mamoru Imade1, Masashi Yoshimura1, Yusuke Mori1 (1.Osaka Univ.)

Keywords:dislocation, inclusion

本研究では、Naフラックス法を用いた結晶育成において、成長層-種結晶界面で転位を発生させないためにピロりん酸処理を行った際の、成長過程での転位密度挙動を観察した。その結果、ピロりん酸処理を行った結晶において、成長後期に転位密度が減少した。一方、成長後期にインクルージョン含有量が増加していることに着目し、インクルージョン含有領域直上の転位密度を測定したところ、無転位領域が存在していた。