2017年第64回応用物理学会春季学術講演会

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シンポジウム(口頭講演)

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[15p-512-1~9] ナノインプリント技術の進展と展開

2017年3月15日(水) 13:30 〜 18:00 512 (511+512)

横尾 篤(NTT)、廣島 洋(産総研)

17:30 〜 17:45

[15p-512-8] 液体シリコンのダイレクトインプリンティング

増田 貴史1、下田 達也1 (1.北陸先端大)

キーワード:インプリント、シリコン、溶液法

半導体Si素子発展の歴史を紐解くと、その出発物質は固体Si(ウェハ)か気体Si(シランやジシラン)が用いられてきた。一方で近年我々は、常温常圧で液体状態を保つ、半導体Siの前駆体物質「液体Si」を合成した。本研究では液体Siの塗膜にnm級のパターン基板を押し当て、非晶質/結晶質Siの微細パターンを直接成型する「液体Siナノインプリント」について報告する。