PDF ダウンロード スケジュール 15 いいね! 1 コメント (0) 15:45 〜 16:00 △ [15p-E206-8] ナノドット含有Si薄膜における構造と出力因子の関係 〇(M2)坂根 駿也1、渡辺 健太郎1,2、藤田 武志3、澤野 憲太郎4、中村 芳明1,2 (1.阪大院基礎工、2.CREST-JST、3.東北大、4.東京都市大) キーワード:シリコン、ナノ、シリサイド