16:00 〜 18:00
[15p-P11-2] 液体クラスターイオンビームの遷移金属薄膜への照射効果
キーワード:クラスターイオンビーム
9kVで加速したエタノールクラスターイオンビームをNi、Cu、Ta の3つの薄膜基板に入射し、そのスパッタ率を求めた。なおクラスターの最小サイズは100分子以下となるよう制御した。結果、アルゴンのモノマーイオンビームに比べて、どの金属薄膜においても10倍以上のスパッタ率が得られた。遷移金属基板においても液体クラスターイオンビームでの表面加工が有効であることが分かった。