[15p-P11-1~11] 7 ビーム応用（ポスター）

[15p-P11-3] 大面積イオンビームミリング用バケット型RFイオン源の開発

〇田中 政信¹ (1.熊本大)

キーワード：イオン源、高周波、イオンビームミリング

イオンビームミリング装置では、バケット型イオン源から最大直径580mmのイオンビームを引き出し、MEMS微細加工、半導体の配線・電極加工、磁気ヘッド、プリンターヘッドの微細加工等に応用されている。本講演では、数百時間連続運転のため開発したバケット型RFイオン源に関し述べる。加速電圧1kVで、直径約300mmの大面積Ar⁺ビーム、イオン電流密度1mA/cm²を達成。酸素他の活性イオン種も可能。