[15p-P14-1~11] 13.3 絶縁膜技術

[15p-P14-11] Al₂O₃/SiO₂混合酸化膜の熱安定性

〇伊藤 健治¹、菊田 大悟¹、成田 哲夫¹、片岡 恵太¹、森 朋彦¹ (1.豊田中研)

キーワード：窒化ガリウム、ゲート絶縁膜、混合酸化膜

GaN-MOS用絶縁膜としてAl₂O₃/SiO₂混合酸化膜を検討している。Al₂O₃では850℃の熱処理により微結晶化するが、SiO₂を混合することによりこの微結晶化を抑制できることが明らかとなった。