[16a-412-1~10] 13.5 デバイス／集積化技術

[16a-412-3] [第8回シリコンテクノロジー分科会論文賞受賞記念講演] Prediction of plasma-induced damage distribution during silicon nitride etching using advanced three-dimensional voxel model

〇久保井 信行¹、辰巳 哲也¹、木下 隆¹、重歳 卓志²、深沢 正永¹、小町 潤¹、安斎 久浩¹ (1.ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社、2.ソニーセミコンダクタマニュファクチャリング株式会社)

キーワード：シリコンテクノロジー分科会論文賞