久保井信行

→ Google ScholarでNobuyuki Kuboiを検索

発表者・著者、共著者

2017年3月16日(木) 09:00 〜 12:15 412 (412)

一般セッション(口頭講演)
| 13 半導体
| 13.5 デバイス／集積化技術

[16a-412-1~10] 13.5 デバイス／集積化技術

6.1と13.3と13.5のコードシェアセッションあり

09:45 〜 10:15

[16a-412-3] [第8回シリコンテクノロジー分科会論文賞受賞記念講演] Prediction of plasma-induced damage distribution during silicon nitride etching using advanced three-dimensional voxel model

〇久保井信行¹、辰巳哲也¹、木下隆¹、重歳卓志²、深沢正永¹、小町潤¹、安斎久浩¹ (1.ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社、2.ソニーセミコンダクタマニュファクチャリング株式会社)