2017年第64回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

[16a-E206-1~13] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

2017年3月16日(木) 09:00 〜 12:15 E206 (E206)

曽根 正人(東工大)、後藤 正英(NHK技研)

09:00 〜 09:15

[16a-E206-1] 局所クリーン化ミニマルPLAD環境コントロールシステム(Ⅱ)

谷島 孝1,2、安井 政治1,2、クンプアン ソマワン1,2、前川 仁1,2、原 史朗1,2 (1.産総研、2.ミニマルファブ)

キーワード:ミニマルファブ

我々は、ミニマルファブの局所クリーン化搬送システムにおける前室システムの研究開発を行っている。前報告で、前室に供給するクリーンエア流量を圧力変動に応じて制御し、内部の差圧を一定に保つシステムを提案した。本報告では、この方法がクリーン化に本当に必要かどうかを検証した。その結果、前室内部の体積変化を受動的に補償して圧力コントロールを行う方法に比べ、クリーン化性能において優れていることが分かった。