[16p-315-1~11] GFIS（電界電離ガスイオン源）ガスイオン顕微鏡技術とその材料・デバイス研究開発への応用：現状と今後の展望

▲ [16p-315-6] Neon GFIS Gas Assisted Etch and Beam Induced Deposition -Characterization for Semiconductor Applications-

〇リック リビングッド¹、Tan Shida¹、Hallstein Roy M.¹、Ali Waqas¹ (1.Intel Corporation)

キーワード：GFIS