[16p-411-1~10] 6.1 Ferroelectric thin films

△ [16p-411-2] Time Response of Crystal Structure Under Applied Electric Field in Tetragonal Pb(Zr,Ti)O₃ Films

〇(M1)Tomoya Sato¹, Daichi Ichinose¹, Takanori Mimura¹, Yuichi Nemoto¹, Takao Shimizu¹, Yasuhiko Imai², Hiroshi Uchida³, Osami Sakata⁴, Hiroshi Funakubo¹ (1.Tokyo Tech., 2.JASRI, 3.Sophia Univ., 4.NIMS/SPring-8)

Keywords:PZT, Applied Electric Field, Time Response

従来の圧電体の研究では、主に成膜直後の結晶構造解析から分極後の圧電特性が議論されてきたが、圧電性の起源の解明には電界印加下の結晶構造解析が重要である。本研究では、異なるパルス幅の電界を印加した際の結晶構造変化を時間分解のXRD測定により解析し、マクロに測定した圧電特性との比較を行った。