[16p-502-1~10] Process technology for advanced power semiconductor devices

[16p-502-9] Chemical vapor deposition of diamond thin films for semiconducting device applications

〇Satoshi Koizumi¹ (1.NIMS)

Keywords:diamond, chemical vapor deposition, semiconductor

ダイヤモンドの気相成長法は1980年代に日本で確立された我が国オリジナルの技術である。ダイヤモンドを合成するためには水素原子を利用したCVD法が主に用いられる。水素原子の発生手法によりいくつかの方法があるが、半導体研究に最も広く使われているのはマイクロ波プラズマCVD法である。講演では主にドーピング制御に関して筆者らが行ってきた研究を中心に結果を紹介する。