[16p-512-1~10] 薄膜・多層膜の界面イメージング

[16p-512-2] 超薄膜構造におけるX線の干渉効果を利用した界面の元素分析

〇(M1)小林 治哉^1,2、桜井 健次^2,1 (1.筑波大院数理、2.物材機構)

キーワード：蛍光X線、X線反射率、不純物検出

本研究では、従来の全反射蛍光X線分析法を拡張し、薄膜構造に由来する干渉効果を利用して薄膜界面に局在する元素の高感度な検出手法について検討している。注目する元素が2つの層の界面に挟まれたような構造を持つモデル試料を作製し、その測定結果から、界面に局在する元素に由来する蛍光X線強度が入射X線視射角へ依存することを確認した。