[16p-P2-1~7] 6.1 Ferroelectric thin films

[16p-P2-4] Evaluation of Pulsed Laser Deposited (K,Na)NbO₃ capacitors with different oxygen pressure

〇Rika Tamano¹, Yoko Takada¹, Naoki Okamoto¹, Takeyasu Saito¹, Koji Higuchi², Akira Kitajima² (1.Osaka Pref. Univ., 2.Osaka Univ.)

Keywords:ferroelectric, pulsed laser deposition, oxygen pressure

高速・低消費電力で不揮発性を有する強誘電体メモリは次世代半導体として利用が期待されているが、有害な鉛系の材料が多用されており、現在非鉛系の代替材料としてKNNが特に注目されている。本研究では、PLD法によりKNNキャパシタを作製し、成膜圧力の違いがKNN薄膜の結晶性とキャパシタの電気特性に及ぼす影響を調査した。