[16p-P3-1~23] 6.2 カーボン系薄膜

[16p-P3-17] SiO_xハードマスクを用いた高アスペクト比ダイヤモンドエッチングプロセス

〇別府 晟多¹、毎田 修¹、伊藤 利道¹ (1.阪大院工)

キーワード：ダイヤモンド、エッチング、高アスペクト比