[16p-P3-1~23] 6.2 カーボン系薄膜

[16p-P3-5] 軟X線照射によるフッ素含有DLC膜の膜物性変化

高松 大樹¹、〇神田 一浩¹、三浦 永理²、赤坂 大樹³、雑賀 章浩⁴、玉田 耕治⁴、田川 雅人⁵、横田 久美子⁵、古山 雄一⁶ (1.兵庫県立大高度研、2.兵庫県立大工、3.東工大工、4.東京高専、5.神戸大工、6.神戸大海事)

キーワード：DLC膜、フッ素含有DLC膜、軟X線照射

1000eV以下の軟X線を、膜厚200nmのF-DLC膜に照射して、膜特性がどのように影響を受けるかを調べた。スパッタリングをしながらXPSを測定することで、組成の深さ分析の照射量依存性を測定した。その結果、F-DLC膜からフッ素が脱離するが、フッ素の減少が表面だけではなく、膜内部でも均等に減少することを見出した。硬度はフッ素の減少に従って増加しており、軟X線照射の影響が表面近傍だけでなく、膜内部に及んでいることを明らかにした。