[16p-P8-1~23] 21.1 Joint Session K

[16p-P8-14] Formation and characterization of GZO transparent conductive films on flexible substrates by using plasma-assisted molecular beam deposition (2)

〇Tsutomu Muranaka¹, Tomoya Nakayama¹, Shin Nakajima¹, Kousuke Okajima¹, Yoichi Nabetani¹, Takashi Matsumoto¹ (1.Univ. of Yamanashi)

Keywords:transparent conducting film, GZO

本研究グループは、これまでに、低温・低損傷プロセスであるプラズマ支援分子線堆積(PAMBD)法を用いて各種フレキシブル基板上へのガリウム添加酸化亜鉛(GZO)透明導電膜の形成と評価を行ってきた。今回は、各種フレキシブル基板に形成したGZO透明導電膜の大きな曲げ変形に伴う電気抵抗率の変化を調査した結果について報告する。