2017年第64回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

8 プラズマエレクトロニクス » 8.3 プラズマ成膜・表面処理

[17a-315-1~15] 8.3 プラズマ成膜・表面処理

2017年3月17日(金) 09:00 〜 13:00 315 (315)

荻野 明久(静岡大)、市來 龍大(大分大)

11:15 〜 11:30

[17a-315-9] RFマグネトロンスパッタリング法で作製した(ZnO)x(InN)1-x膜のフォトルミネッセンス

松島 宏一1、〇宮原 奈乃華1、岩崎 和也1、山下 大輔1、徐 鉉雄1、古閑 一憲1、白谷 正治1、板垣 奈穂1 (1.九大)

キーワード:酸窒化インジウム亜鉛、スパッタリング、フォトルミネッセンス