2017年第64回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

16 非晶質・微結晶 » 16.3 シリコン系太陽電池

[17p-211-1~12] 16.3 シリコン系太陽電池

2017年3月17日(金) 13:30 〜 16:45 211 (211+212)

松木 伸行(神奈川大)、宮島 晋介(東工大)

16:00 〜 16:15

[17p-211-10] 熱ALDによるAlOx層成膜時の酸化剤とパッシベーション性能の関係

市川 寛章1、高橋 勲1、〇宇佐美 徳隆1、白澤 勝彦2、高遠 秀尚2 (1.名大院工、2.産総研福島)

キーワード:パッシベーション、アルミナ、熱ALD

本研究ではAlOx層製膜時における酸化剤としてH2OとO3を用いた2種類の試料を作製し、キャリアライフタイムの比較を行った。また、光照射前後におけるキャリアライフタイムの変化に基づき、AlOx層の膜質について考察を行った。その結果、AlOx層成膜時に酸化剤としてO3を用いることにより、AlOx層中の欠陥準位形成が抑制され、SiNx:H/AlOxスタック構造により高キャリアライフタイムの実現が可能なことを示した。