[17p-315-1~12] 8.1 プラズマ生成・制御

[17p-315-4] 液中プラズマを用いたナノグラフェン合成に及ぼす超音波の影響

〇安田 啓司¹、中田 諒¹、天野 智貴¹、加納 浩之²、近藤 博基¹、堀 勝³ (1.名大院工、2.NUエコ・エンジニアリング、3.名大未来社会創造機構)

キーワード：液中プラズマ、グラフェン、超音波

グラフェンの高速かつ結晶性の高い合成方法の開発を目的として、液中プラズマによるナノグラフェン合成に及ぼす超音波照射の影響を検討した。周波数500kHzの超音波を併用したとき合成速度が増加し、振動子印加電圧とともに合成速度が高くなった。これは超音波キャビテーションによる高温・高圧・高速流動場による効果であると考えられる。ラマン解析から、結晶サイズは振動子印加電力とともに大きくなることが明らかとなった。