2017年第64回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(ポスター講演)

15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[17p-P3-1~22] 15.4 III-V族窒化物結晶

2017年3月17日(金) 13:30 〜 15:30 P3 (展示ホールＢ)

13:30 〜 15:30

[17p-P3-10] 高真空スパッタ装置を用いたDC反応性スパッタ法によるAlN膜の成長

〇伊藤 勝利1、斉藤 茂1 (1.東理科大工)

キーワード：窒化アルミニウム、スパッタリング