14:00 〜 14:30 [20p-141-2] ZrO2シード層による強誘電体HfxZr1-xO2薄膜形成 〇生田目 俊秀1、女屋 崇1,2,3、澤本 直美2、大井 暁彦1、池田 直樹1、小椋 厚志2 (1.物材機構、2.明治大学、3.学振特別研究員DC)