16:45 〜 17:00 [18p-235-14] 印刷と焼成による Si 基板上への SiGe 層のエピタキシャル成長における熱処理条件の効果 〇深見 昌吾1、中川 慶彦1、後藤 和泰1、黒川 康良1、中原 正博2、ダムリン マルワン2、宇佐美 徳隆1 (1.名大院工、2.東洋アルミ)