11:00 〜 11:15 [19a-136-8] 希釈H2Sガスを用いたCu2Sn1-xGexS3光吸収層の作製 〇小林 純1、ミョー タンテイ1、百瀬 成空2、伊東 謙太郎1、橋本 佳男1 (1.信州大工、2.長野高専)