17:45 〜 18:00 △ [19p-234B-17] 窒化物厚膜をターゲットに用いたパルスレーザー堆積法によるZn3N2エピタキシャル薄膜の作製 〇土井 雅人1、朱 雨庭1、中尾 祥一郎1、廣瀬 靖1、杉澤 悠紀2、菊田 純一2、関場 大一郎2、長谷川 哲也1 (1.東大院理、2.筑波大)