栗島一徳

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発表者・著者、共著者

2018年9月20日(木) 13:30 〜 18:30 234A (234-1)

一般セッション(口頭講演)
| 21 合同セッションＫ「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」
| 21.1 合同セッションＫ「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[20p-234A-1~18] 21.1 合同セッションＫ「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

17:45 〜 18:00

△ [20p-234A-16] NBIS測定によるAl₂O₃パッシベーション膜を用いたIn_1-xSi_xO_1-yC_y TFTの信頼性評価

〇(D)栗島一徳^1,2,3、生田目俊秀²、女屋崇^1,2,3、塚越一仁²、大井暁彦²、池田直樹²、長田貴弘²、小椋厚志¹ (1.明治大、2.物材機構、3.学振DC)