MinGee Kim

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発表者・著者、共著者

2018年9月20日(木) 13:30 〜 18:30 141 (141+142)

シンポジウム(口頭講演)
| シンポジウム
| 強誘電HfO₂技術の最新動向　～プロセス・物性からデバイス・回路応用まで～

[20p-141-1~13] 強誘電HfO₂技術の最新動向　～プロセス・物性からデバイス・回路応用まで～

15:15 〜 15:30

▼ [20p-141-5] Electrical characteristics of ferroelectric undoped HfO₂directly deposited on Si(100) utilizing Kr/O₂ sputtering

〇(D)MinGee Kim¹、Shun-ichiro Ohmi¹ (1.Tokyo Tech.)