10:00 〜 10:15
〇(M1)寺林 真輝1、関 真一郎2、中村 優男2、川﨑 雅司2,3、石橋 幸治2、齋藤 智彦1、松野 丈夫2,4,5 (1.東理大理、2.理研CEMS、3.東大工、4.阪大理、5.JSTさきがけ)
寺林 真輝
発表者・著者、共著者
2018年9月18日(火) 09:15 〜 11:45 223 (223)
- 一般セッション(口頭講演)
- | 6 薄膜・表面
- | 6.3 酸化物エレクトロニクス
2018年9月18日(火) 09:15 〜 11:45 223 (223)
10:00 〜 10:15
〇(M1)寺林 真輝1、関 真一郎2、中村 優男2、川﨑 雅司2,3、石橋 幸治2、齋藤 智彦1、松野 丈夫2,4,5 (1.東理大理、2.理研CEMS、3.東大工、4.阪大理、5.JSTさきがけ)