16:00 〜 18:00 [18p-PB3-78] スパッタリング堆積法によるSnS2 膜作製とポストアニールの効果 〇林 賢二郎1,2、片岡 真紗子1、實宝 秀幸1,2、大淵 真理1,2、岩井 大介1、佐藤 信太郎1,2 (1.富士通研、2.富士通)