09:45 〜 10:00 [19a-436-2] 不活性ガス雰囲気下での熱処理を用いたMg2Si薄膜の合成と膜質評価 〇堀場 一成1、藤原 道信1、中川 慶彦1、後藤 和泰1、黒川 康良1、伊藤 孝至1、宇佐美 徳隆1 (1.名大院工)