16:00 〜 16:15 [19p-131-10] デバイス工程中の炭素クラスター注入領域の水素吸着脱離挙動解析 〇奥山 亮輔1、柾田 亜由美1、小林 弘治1、重松 理史1、廣瀬 諒1、門野 武1、古賀 祥泰1、奥田 秀彦1、栗田 一成1 (1.SUMCO)