Weichen Wen

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発表者・著者、共著者

2018年9月20日(木) 09:30 〜 11:30 PA (イベントホール)

一般セッション(ポスター講演)
| 13 半導体
| 13.3 絶縁膜技術

[20a-PA5-1~14] 13.3 絶縁膜技術

09:30 〜 11:30

▲ [20a-PA5-14] Low-temperature fabrication of Ge MOS capacitors for spintronics and flexible electronics application

〇(D)Weichen Wen¹、Keisuke Yamamoto¹、Dong Wang¹、Hiroshi Nakashima² (1.IGSES, Kyushu Univ.、2.GIC, Kyushu Univ.)