14:30 〜 14:45 △ [20p-234A-5] アモルファスGa2O3薄膜のエキシマレーザー照射による室温固相エピタキシーにおける作製因子の検討 〇(M1)森田 公之1、大賀 友瑛1、土嶺 信男2、金子 智3,1、松田 晃史1、吉本 護1 (1.東工大物質理工、2.(株)豊島製作所、3.神奈川県産総技研)