2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[18a-146-1~13] 15.4 III-V族窒化物結晶

2018年9月18日(火) 09:00 〜 12:30 146 (レセプションホール)

片山 竜二(阪大)、関口 寛人(豊橋技科大)

11:15 〜 11:30

[18a-146-9] パルススパッタ堆積法による高電子移動度n型GaN薄膜の成長と評価

上野 耕平1、柴原 啓太1、小林 篤1、藤岡 洋1,2 (1.東大生研、2.JST-ACCEL)

キーワード:GaN、スパッタリング