2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング

[18p-136-1~15] 3.7 レーザープロセシング

2018年9月18日(火) 13:45 〜 18:00 136 (3Fロビー)

佐藤 正健(産総研)、辻 剛志(島根大)

15:30 〜 15:45

[18p-136-7] フェムト秒レーザ還元直接描画法における熱蓄積の影響

〇(M1)西谷 健太1、秦 誠一1、溝尻 瑞枝2 (1.名大院工、2.長岡技科大)

キーワード:フェムト秒レーザ、パターニング、熱電材料

CuO/NiO混合ナノ粒子を原料としたフェムト秒レーザ還元描画において,パターンへの総入射エネルギーを変化させて,p型(Cu2O/NiO)・n型(Cu-Ni)の熱電微細パターンを選択的に作製した.熱蓄積がパターン還元度に与える影響を調査するため,レーザフルエンスと描画速度を変化させたときの特性を評価した.その結果,熱履歴が還元度に大きく影響することを見出した.更に,本手法を用いた高感度な熱電対の直接描画にも成功した.