[18p-212B-1~11] 【CS.8】 Code-sharing Session of 7.4 & 9.5

[18p-212B-7] Analysis of chemical reactions at the Au-thin-film/Si interface by operandosoft x-ray photoelectron spectroscopy under oxygen ambient

〇Satoshi Toyoda¹, Tomoki Yamamoto², Yuma Kajino², Hirosuke Sumida³, Susumu Mineoi³, Kazushi Yokoyama², Akitaka Yoshigoe⁴ (1.Kyoto Univ., 2.Univ. of Hyogo, 3.Mazda, 4.JAEA)

Keywords:operando soft x-ray photoelectron spectroscopy, Au-thin-film/Si interface, Solid-liquid phase transition

我々は、固相-液相-気相の界面化学反応を定量解析する技術を構築するため、Au/Si界面をモデル系とし、雰囲気制御下のX線光電子分光データ解析に関する研究を進めている。Si基板上に50 nm厚のAu薄膜を蒸着し、その昇温過程について酸素雰囲気中軟X線光電子分光計測を行ったところ、酸素による固液相転移の低温化と思われる現象を観察した。Auのフェルミ準位近傍の電子状態変化との相関関係について報告する。