2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[18p-223-1~17] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2018年9月18日(火) 13:15 〜 18:00 223 (223)

高橋 竜太(東大)

15:30 〜 15:45

[18p-223-9] 重い電子系スピネルLiV2O4 の薄膜成長と電気化学的Li 挿入

矢島 達也1、相馬 拓人1、吉松 公平1、大友 明1,2 (1.東工大物質理工学院、2.元素戦略)

キーワード:スピネル型構造、薄膜成長、リチウムインターカレーション

金属酸化物への電気化学的挿入反応は,リチウム二次電池における繰り返し充放電のような可逆性を示し,基板上で安定化された薄膜では結晶構造を維持したまま可逆的にキャリアを変調することができるため,金属酸化物の物性制御に用いることができる .我々は,汎用的な正極材料であるLiMn2O4 と共通のスピネル型構造を有する重い電子系LiV2O4 に着目し,そのエピタキシャル薄膜成長と電気化学的挿入反応による物性変調に成功したので報告する.