2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(ポスター講演)

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[18p-PA5-1~28] 12.4 有機EL・トランジスタ

2018年9月18日(火) 16:00 〜 18:00 PA (イベントホール)

16:00 〜 18:00

[18p-PA5-18] 塗布型n型半導体の熱安定性評価

栗原 一徳1、延島 大樹1、武居 淳1、小笹 健仁1、植村 聖1、吉田 学1 (1.産総研)

キーワード:封止膜、低電圧、塗布型半導体

本発表では塗布でも利用可能なn型半導体TU-1で2 V駆動の薄膜トランジスタを作製し、その加熱安定性を評価した。その結果、パリレンCによる封止を行った素子よりも行わなかった素子の耐熱性が高く、120℃加熱後も移動度は初期値の12%の劣化に留まることがわかった。一方で封止を行ったものは初期値の34%の劣化が起きた。これは既に報告されているDNTTとは逆の傾向であったためこれを報告する。