The 79th JSAP Autumn Meeting, 2018

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13 Semiconductors » 13.7 Compound and power electron devices and process technology

[18p-PA6-1~30] 13.7 Compound and power electron devices and process technology

Tue. Sep 18, 2018 4:00 PM - 6:00 PM PA (Event Hall)

4:00 PM - 6:00 PM

[18p-PA6-6] Characterization of processed n-GaN surface using an electrochemical impedance spectroscopy

Kentaro Takeda1, Masachika Toguchi1, Taketomo Sato1 (1.RCIQE,Hokkaido Univ.)

Keywords:gallium nitride, electrochemistry, in-situ characterization

これまでに、ドライエッチングによりn型GaN表面に導入された加工損傷を、溶液中の光電気化学(PEC)反応を利用して除去する手法を開発した。今回は、PECプロセスの効果を、溶液中でその場(in-situ)評価する手法について検討した。