2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

21 合同セッションK「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」 » 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[19a-224A-1~8] 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

2018年9月19日(水) 09:30 〜 11:30 224A (224-1)

池之上 卓己(京大)

09:30 〜 09:45

[19a-224A-1] 水リフトオフプロセスによるβ-Ga2O3薄膜の選択成長・マイクロパターニング及び特性評価

井藤 聡詞1、嵐 智明1、川江 健1 (1.金沢大理工)

キーワード:酸化ガリウム、選択成長、プロセス