2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

21 合同セッションK「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」 » 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[19a-224A-1~8] 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

2018年9月19日(水) 09:30 〜 11:30 224A (224-1)

池之上 卓己(京大)

10:30 〜 10:45

[19a-224A-5] 金ナノ粒子修飾サファイヤ基板上酸化ガリウム薄膜の作製

増田 泰久1、金子 健太郎1、大島 祐一2、四戸 孝3、藤田 静雄1 (1.京大院工、2.物材機構、3.FLOSFIA)

キーワード:酸化ガリウム