2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

21 合同セッションK「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」 » 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[19a-224A-1~8] 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

2018年9月19日(水) 09:30 〜 11:30 224A (224-1)

池之上 卓己(京大)

11:15 〜 11:30

[19a-224A-8] c面サファイアoff基板を用いたc-In2O3(111)単結晶のHVPE成長

長井 研太1、中畑 秀利1、小西 敬太1、Plamen P. Paskov2、Bo Monemar2,3、熊谷 義直1,3 (1.東京農工大院工、2.リンチョーピン大、3.東京農工大GIR)

キーワード:結晶成長、ハライド気相成長、酸化インジウム