[19a-234B-1~9] 6.4 薄膜新材料

[19a-234B-7] 水蒸気スパッタ法を用いたクロム酸化物薄膜の高速成膜

〇王 ハン¹、阿部 良夫¹、川村 みどり¹、金 敬鎬¹、木場 隆之¹ (1.北見工大)

キーワード：クロム酸化物、高速スパッタ成膜、ターゲット電圧

本研究では、水蒸気を反応ガスに用いた、スパッタ法によって、クロム酸化物薄膜の成膜速度向上について検討した。水蒸気はターゲット表面に吹きつけスパッタ装置のチャンバー内には、液体窒素コールド・トラップを取り付けて、反応しなかった水蒸気を吸着する構造とした。コールド・トラップを用いた場合、チャンバー内の水蒸気分圧が低下し、金属ターゲットモードでクロム酸化膜を高速成膜することができた。