[19a-234B-1~9] 6.4 薄膜新材料

[19a-234B-9] rfスパッタリングによるIrOx系エレクトロクロミック薄膜の作製

〇須賀 結奈¹、加藤 勤¹、賈 軍軍¹、富本 晃吉²、小口 有希²、中村 新一²、重里 有三¹ (1.青学大理工、2.青学大理工分析C)

キーワード：酸化イリジウム、エレクトロクロミズム、スパッタリング