[19a-311-1~12] 17.3 層状物質

[19a-311-11] 層状物質 NbSe₂劈開膜の微細加工が伝導特性に与える影響 I： 反応性イオンエッチング

〇(M2)星 直樹¹、矢部 大輔¹、友利 ひかり¹、渡邊 賢司²、谷口 尚²、神田 晶申¹ (1.筑波大数理物質、2.物材機構)

キーワード：層状物質、カルコゲナイド

遷移金属ダイカルコゲナイドの一つで超伝導体である２セレン化ニオブ(NbSe₂)の劈開膜に対して反応性イオンエッチング(RIE)を行った際の影響を電気伝導を通して調べた。室温抵抗率の大幅な上昇、超伝導転移温度の減少と転移幅の増大が見られたことから、RIEによってNbSe₂薄膜に欠陥が導入されていることが示唆された。