[19a-436-1~8] 13.2 探索的材料物性・基礎物性

[19a-436-2] 不活性ガス雰囲気下での熱処理を用いたMg₂Si薄膜の合成と膜質評価

〇堀場 一成¹、藤原 道信¹、中川 慶彦¹、後藤 和泰¹、黒川 康良¹、伊藤 孝至¹、宇佐美 徳隆¹ (1.名大院工)

キーワード：マグネシウムシリサイド、熱電材料

Mg₂Siはn型熱電材料として有望であるが、Mg₂Si薄膜の作製法であるスパッタリング法はコストがかかる。本研究では、Mg膜をSi基板上に堆積した試料及びMgリボンをSi基板に固定した試料の不活性ガス雰囲気中熱処理にてMg₂Si薄膜を作製し膜質の差を調査した。測定の結果、いずれの試料でも多結晶Mg₂Siの形成と一部の{100}配向が確認され、酸化の有無の差が確認された。蒸着を用いた手法は酸化の防止、リボンを用いた手法は膜厚の制御が課題となる。